EVO Sonic

Nettoyage de cartes électroniques par ultrasons, minutieux et délicat

Le nettoyage par immersion des cartes électroniques, des wafers, des cadres de vague et des pièces de machine est une méthode de nettoyage extrêmement puissante en étant délicate. L’agitation nécessaire pour un nettoyage en profondeur est obtenue en utilisant des ultrasons et/ou des jets immergés.

Les systèmes à ultrasons EVO SONIC font valoir leurs avantages, en particulier pour les cartes électroniques complexes à géométrie difficile ou à faibles espaces interstitiels ainsi que dans le cas de grandes quantités, grâce à la répartition optimale des étapes du process telles que le lavage, le rinçage et le séchage.

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Avantages du nettoyage par ultrasons Propreté optimale, produits fiables

Evo Sonic

Avantages du nettoyage par ultrasons

Le nettoyage par ultrasons offre des avantages supérieurs à ceux des autres méthodes de nettoyage. Il s’agit même parfois de la seule option de nettoyage possible.

  • Rapidité : temps de circulation courts
  • Efficacité : nettoie efficacement même les contaminations les plus tenaces
  • Pénétration : nettoie toutes les surfaces que l’eau peut atteindre, 
    même les structures complexes avec des trous et des canaux
  • Précision : élimine même les plus petites particules jusqu’à 1 micron
  • Polyvalence : tolère un large éventail de produits chimiques
  • Respect de l’environnement : utilise un procédé à base d’eau à faible consommation d’énergie
EVO Sonic

Propreté optimale, produits fiables

Le nettoyage de précision de grands volumes doit normalement être effectué en plusieurs étapes et de manière automatisée. Une plus grande propreté particulaire peut être obtenue dans les systèmes de nettoyage à plusieurs étapes, car les grosses particules ne se coincent pas lors des dernières étapes propres du process de nettoyage, contrairement aux systèmes de nettoyage à chambre unique qui donnent un mauvais résultat de nettoyage en raison de l’accumulation de particules dans la chambre de lavage.

Les particules peuvent être éliminées de la surface de la pièce grâce à des techniques de nettoyage efficaces. Les produits de nettoyage et de rinçage sont filtrés, ce qui permet de garder les réservoirs propres plus longtemps et donc de réduire la consommation. Seul le nettoyage par ultrasons permet de détacher les plus petites particules qui resteraient collées avec d’autres techniques de nettoyage. Le process de nettoyage proprement dit, avec ses phases de lavage, de rinçage et de séchage, est défini en fonction du degré de propreté requis par le client et des exigences de débit.

Les systèmes EVO SONIC peuvent être utilisés manuellement ou intégrés de manière entièrement automatisée dans votre environnement de process.

  • Caractéristiques de l'équipement et données techniques

    Caractéristiques de l’équipement

    Les générateurs d’ultrasons commutables de 40 kHz et 132 kHz offrent la possibilité d’un nettoyage par ultrasons puissant et délicat, par exemple pour les cartes électroniques à faible espace interstitiel et les wafers.

    Les systèmes de nettoyage par ultrasons EVO SONIC établissent de nouvelles normes en matière de conception de systèmes. Des détails bien pensés dans le domaine du guidage du fluide de nettoyage, de l’agitation et de la commande du process garantissent un déroulement du process flexible et économe en énergie, conforme aux exigences.

    Process de nettoyage

    Les procédés conçus de manière flexible permettent d’obtenir un résultat de nettoyage optimal.

    Module de nettoyage avec agitation par ultrasons
    Module de traitement avec la technologie unique SonicJet : performance combinée de nettoyage par ultrasons et de jets immergés
    Modules oscillants de nettoyage par pulvérisation
    Modules de lavage et de rinçage avec jets immergés
    Module de traitement pour le rinçage par immersion afin d’éliminer les particules et les résidus de détergent
    Séchoir à air chaud avec souffleur puissant et chauffage : pour un séchage rapide

    Options

    • Filtration des particules
    • Séparation des huiles
    • Alarme de blocage de filtre
    • Divers réservoirs tampons
    • Écrémage des surfaces
    • Recharge automatique de l’eau
    • Dosage automatique des détergents
    • Régulation automatique de la concentration en détergent
    • Surveillance du bain (valeur du pH, conductivité)
    • Panier de lavage oscillant

     

    Données techniques

    Données techniques
    Versa Genius+ 50
    Versa Genius+ 120
    Versa Genius+ 180
    Dimensions internes du panier (mm) L 267 × P 367 × H 206 L 367 × P 567 × H 315 L 430 × P 610 × H 395
    Poids de charge (kg) 10 26 39
    Dimensions externes du réservoir (mm) L 549 × P 971 × H 968 L 653 × P 1 174 × H 968 L 723 × P 1 217 × H 968
    Volume de remplissage 46 120 180
    Puissance de chauffage (W) 2 000 3 000 5 000
    Puissance ultrasonore nom./pic (W) 600 / 1 200 1 200 / 2 400 2 400 / 4 800
    Fréquence ultrasonore (kHz) 37 / 132 37 / 132 37 / 132